结语：兼论制度的创新与规则的重复

　　相对于传统的知识产权法的各个领域，对集成电路布图设计进行法律保护是一种制度创新。从日常生活的体验、技术进步的要求到商业社会的繁荣乃至其 它国家的立法实践都证明了这种制度创新的必要性。然而，应当进行制度创新是一回事，如何进行这种创新又是另一回事。仔细考察我国《集成电路布图设计保护条 例》的条文规定，我们就会发现绝大部分都是版权法和专利法的内容的翻版。这种规则的大量重复不仅可能造成立法资源的浪费以及执法和司法资源的分散，而且可 能使一部整体上有“效力”的法律没有“实效”。所以，笔者在此检讨了专门立法保护布图设计的模式，并尽量主要以版权法的视角探析了现行法的规定，从而在传 统知识产权法的框架内对集成电路布图设计的知识产权保护进行恰当的定位。这种选择可能是保守的对传统制度的“惯性依赖”[20]，但笔者还是希望展示一条 不同的思维路径。

　　参考文献：

　　[1]  转引自盛大铨：《论集成电路及其布图设计的法律保护》，载《南京邮电学院学报（社会科学版）》第4卷第4期。

　　[2] 《中国的知识产权制度》（中国科学技术蓝皮书第7号），国家科学技术委员会主编。

　　[3] 《加快发展集成电路工业、推进国民经济信息化》，载《中国市场经济报》1995年6月21日第1版。

　　[4]  李扬主编：《知识产权的合理性、危机及其未来模式》，法律出版社2003年版，第301页。

　　[5] 上超望：《对集成电路布图设计立法模式的分析与思考》，载《高等函授学报（自然科学版）》第15卷第2期。

　　[6] 刘文：《论集成电路布图设计保护法的特点》，载《学术交流》2002年3月版。

　　[7] 李廉水：《产学合作利益机制的核心-知识产权保护》，载《国际技术经济研究》第1卷第3期。

　　[8] 孙秋宁：《集成电路布图设计特别保护若干问题研究》，北京大学法学院2000级硕士研究生学位。

　　[9] 郑胜利：《集成电路布图设计保护法比较研究》，载《北大知识产权评论》第1卷。

　　[10] 郭禾：《半导体集成电路知识产权的法律保护》，载《中国人民大学学报》2004年第1期。

　　[11] 绉忭：《集成电路与计算机软件保护的比较分析》，载《研究与探讨》2002年第3期。

　　[12] 美国法上虽然也将“掩膜作品”作为其版权法的单独一章，但这一部分实质上是独立的；而笔者建议把对集成电路布图设计的保护作为我国版权法的一章是因为它的大部分内容要适用版权法的实质规定。