集成电路与知识产权
发布日期：2004-02-19 文章来源： 互联网
中国作为发展中国家中的大国，从自身的长远利益考虑，对知识产权保护问题予以高度 重视，对集成电路的保护自然也不应例外。因此，有必要像制订其他有关知识产权法，如专 利法、商标法、著作权法一样，制订一部既适应我国集成电路产业发展现状，又符合国际知 识产权保护原则的专门法律，来保护集成电路。
一、集成电路知识产权的特点
从国际上已经形成的集成电路法律保护制度看，法律所直接保护的对象并不是集成电路产品本身，而是集成电路布图设计（1ayoutdesign）。因此，所谓集成电路知识产权，实质上 是布图设计权。法律通过保护布图设计来达到保护集成电路的目的。不同国家在立法中对布 图设计分别采用了不同的名称：美国称之为掩模作品（maskworks）；日本叫作电路布局（cir— cuitlayout）；西欧各国在其立法中则采形貌结构（topography）这一提法，而世界知识产权组 织在《关于集成电路的知识产权条约》中把它叫作布图设计。笔者以为，在这众多的名词中 还是以“布图设计”一词为最佳。“掩模作品”一词取意于集成电路生产中的掩模。集成电路技术发展到今天，已可不使用掩模版生产集成电路了，如采用离子注入技术、电子束曝光技术等等，所以“掩模用品”已有过时之嫌。面“线路布局”一词又难免与电子线路板的布线设计相混淆，故亦有不妥之处。“形貌结构”一词原意为地貌、地形，并非电子学术语，用以指布图设计只是一种借用。有人将“topography”译作“拓朴图”，此属音意合译。在国内集成电路设计行业中，拓朴图的含义是比较宽泛的，通常把某些尚未最后形成布图设计的前期设计也称作拓朴图，所以将其汉译为拓朴图可能造成设计人的误解。当然还有学者将该词译作，“构形”。相比之下，还是世界知识产权组织采用的尸布图设计“一词比较妥当；它不仅避免了其他各词的缺陷，而且这一名词本身在产业界及有关学术界已广泛使用。《中国大百科电子学与计算机》中亦有？布图设计”的专门词条集成电路设计是人类智力劳动的成果，它的保护问题理所当然地应受知识产权法调整。作为知识产权的客体之一，布图设计有着与其他客体相同的共性；同时它又具有独特的个性。
首先，集成电路布图设计具有无形性。无形性是知识产权客体的共同属性，也是最基本的特点。这是集成电路布图设计作为知识产权客体的必要条件。所谓集成电路布图设计是指以任何方式固定或者编码的一系列相关图像：（1）它反映了用以构成集成电路产品的材料层之间的三维配置模式；（2）每一图像分别体现了集成电路产品制造过程中各阶段的表面模式的整体或部分。由此可知，布图设计实际上是图形化的集成电路中各元件的配置方式，这种配置方式本身是抽象的、无形的。它没有具体的的形体，而是以一种信息状态存在于世，不像有形物体占居一定的空间。但是当它附着于一定的载体时，就可以通过有形载体为人所感知。
其次，布图设计具有可复制性。可复制性是著作权客体应当具备的一个基本特征，因为 著作权中最基本的权利即为复制权。而布图设计同样也具备可复制性，从这种意义上看，布 闺设计兼有著作权客体的特征。当布图设计的载体为掩模版时，布图设计以图形方式存在于 掩模版上。这时只要对全套掩模版加以翻拍，即可复制出全部的布图设计。当布图设计以磁 带或磁盘为载体时，同样可以采用通常的磁盘或磁带拷贝方法复制以布图设计为内容的编码，从而达到复制布图设计的目的。当布图设计被“固化”到集成电路芯片产品中时，复制布图设计的过程相对复杂一些，但仍可将其复制。这种从集成电路新产品入手，利用各种特殊技术手段复制集成电路布图设计，了解分析其功能的方法被称作“反向工程”（reverseengineeing）。由此可知，无论集成电路布图设计以什么为载体，也无论布图设计以何种方式存在，总可以通过适当的方法对布图设计加以复制。
第三，集成电路布图设计的表现形式具有非任意性。集成电路是一种电子产品，其电子 功能的实现有赖于布图设计的特定图形的组合。换言之，布图设计直接与一定的电子功能相 联系。因此，布图设计的表现形式受到诸多因素的限制，这不同于一般著作权客体。对于一 般著作权客体，同一思想或观点，不同的作者可以采用完全不同的形式来表达，其表现形式 通常是没有限制的。著作权法对作品表现形式的保护绝对不会导致对思想、观点以及概念的 垄断。这正是著作权法的基本原则之一，即著作权法只保护作品的表现形式，而不保护作品 的内在思想。
集成电路布图设计表现形式的有限性主要表现在以下几个方面。第十，布图设计图形的形状及其大小受到集成电路产品的电参数要求的限制。在设计中，为了追求集成电路的耐压 特征，设计者不得不将晶体管基区图形设计为圆形，这样才能减小因结晶曲率半径过小而导致电场过于集中，从而发生击穿的可能性。同样，为了提高集成电路的功率参数，相应各件图设计图形的尺寸均应增大，使之得以承受大电流的冲击。第二，布图设计还受到生产工艺技术水平的限制。为了提高集成电路的集成密度或者为：了改善其交流特性，设计时常将集成电路中各元件的图形尺寸尽可能缩小。这样，布图设计中的线条宽度相对较细。但是，线条的粗细是受到生产工艺水平限制的。如果将布图设计线条设计得太细，以致工艺难度太大就将极大地影响集成电路产品的成品率和可靠性，从而使该产品丧失商业价值。相反，如果为追求功率参数而一味地扩大布图设计的面积，也会导致集成电路芯片成品率下降。因为芯片材料晶格完整程度或其晶格缺陷密度的大小与生产工艺技术水平直接相关。芯片面积越大，其中所包含的缺陷也越多，故因缺陷而导致芯片失效的概率也越大。此外，布图设计还受着‘些物理规律以及材料种类、性能等因素的制约。比如，为克服晶体管中因基区自偏压效应而导致发射极间电位高低不等的现象，设计者通常不得不在布图设计中专门加上均压图形，或称均压条，类似的情况还有不少。
第四，布图设计具有实用性。实用性是专利“三性”之一，它是指某一申请专利的产品 或方法能够制造或者使用，并能产生积极的效果。布图设计完全满足实用性的要求，首先，布图设计在集成电路生产过程中是不可或缺的，即布图设计可直接用于制造集成电路芯片。其次布图设计本身又与一定的电子功能相联系，从某种意义上讲，布图设计是将电子线路转换为一种图形表现形式。故仅就布图设计本身而言，也应当认为其具备实用性。日本《半导体集成电路布局法》中关于布图设计“使用”的概念有助于理解布图设计的实用性。该法所谓“使用”指下列行为：“1）采用该电路布局制造半导体集成电路；2）为转让、租赁、出于转让或租赁目的的展览或者进口了采用该电路布局所制造的半导体集成电路（包括装有这种半导体集成电路的物品）”。在这里，布图设计的使用不仅从布图设计延伸到含有布图设计的集成电路，而且进一步延伸到用该集成电路所组装的物品。
二、专利法对集成电路的保护
专利法所保护的对象主要是技术领域里的发明创造，集成电路理所当然地属于这一范围。自集成电路产生以来，各国专利法就集成电路产品及相关技术授予了不少的专利。集成电路的发明人J.基尔比和B.N.诺伊斯就分别有16项和50项关于集成电路的专利权。我国专利法生效已有8年，在其授予专利权的电学领域的发明创造中也不乏关于集成电路的发明创造。专利法对于具备专利性的发明创造，无论是集成电路产品本身，还是集成电路制造方法，都可以给予保护。从一般意义上讲，专利法确是保护先进技术的有力武器。
但是，对于集成电路这一特定的工业产品，由于它具有与其他工业技术不同的特点，故 而导致了专利法对它的保护不尽完善，究其原因主要在于专利法对其保护各种技术方案所提 出的要求，对集成电路而言显得太苛刻了，专利法要求受保护的技术方案必须具备新颖性、创造性和实用性，所谓新颖性是指受保护的集成电路必须是前所未有的。任何一种新型集成电路产品都不难满足这一要求。只要这种集成电路与已有的产品不同，这种不同可以是设计上的，也可以是功能上的，则该产品即具备新颖性。所谓实用性是指受保护的对象必须在产业上能够应用，并能产生积极效果。集成电路本身就是一种工业产品，而这种产品要实现其价值就必须投入实际应用。这在前面已经论述。因此可以说没有不具备实用性的集成电路。问题的关键在于创造性。依照专利法的要求，具备创造性的产品必须在技术上具有突出的实质性特点和显著的进步。也就是说，对于本专业普通技术人员而言，该发明创造不是显而易见的，或者说不是从现有技术中通过常规的逻辑推理所必然得出的结果。简言之，就是要求受保护的对象在技术上具有一定难度，或者说创造高度。这一要求对集成电路来讲，就显得过于严格了，它将使大多数集成电路品种得不到专利法的保护，具体表现在以下两个方面。
第一，集成电路的制造者和使用者，在通常情况下最为关心的问题是集成电路规模的大 小，也就是一片芯片上所包含的元器件数量的多少。因为集成规模的大小直接反映了集成电 略产业技术发展水平的高低。一片小规模集成电路芯片所包含的元件数量不超过一百个，中 规模集成电路的水平为一百至一千；大规模集成电路的集成规模约为每片一千至一万个元器 件，超大规模集成电路芯片所容纳的元件数则更多。集成规模的大小不仅是集成电路本身技 术水平高低的标志，而且计算机划代也是以其硬件所采用的不同规模的集成电路为标准的。 目前，集成度最高的芯片是64M位的RAM芯片，它包含1.4亿个元件，世界上仅有少数几家企业能够生产。但是，如果就这种尖端产品作一个整体去申请专利，则很可能会因无法通过创造性审查而被驳回。因为绝大多数半导体存储器的基本设计方案会有一些变化或改进，但从存储器整体上看，其中相当大成份是已有技术的简单放大，因此它难以作为一个整体受到专利法的保护。总而言之，集成电路产业中用来衡量技术发展水平的标准-集成度，与专利法中的创造性标准不能协调一致，集成度高未必就具备专利法上的创造性。
第二，在集成电路设计中，尤其在设计一些规模较大的电路时，设计人常常采用一些现 成的单元电路进行组合。这些单元电路在实践中已为人们所熟知，其中一些甚至已成最优化 投计，其表现形式是有限的，甚至是唯一的。对设计人来讲，要追求电路的最佳功能状态只 有一种选择，即采用这些已经成型的单元电路。在专利法中，由各种现有技术组合而成的发 明创造被称作组合发明。这里，由各现有单元电路模块组合成的集成电路即为一种组合发明， 这类单元电路组合所发生的结果，在通常情况下，根据已有知识是可以事先预测的，不会产 生意想不到的结果。在专利审查中，组合发明要通过创造性审查，必须取得了对该发明创造 所属技术领域的普通技术人员来说难以预先想到的效果。而这对大多数集成电路来讲，是难 以达到的。
以上两种情况在集成电路设计中是十分常见的，故而使得众多集成电路因为创造高度达 不到要求而不能受到专利法的保护。尤其是第一种情况，可能会导致最先进、最尖端的集成 电路产品得不到法律保护。当然，对于确实具备创造性的某些集成电路仍可申请专利以寻求 保护。比如，第一个发明电荷耦合器件（charge—coupleddevice，简称CCD）的发明人便可就其发明创造申请专利，因为CCD与原有的其他器件相比确有其实质性特点。应当承认，专 利法作为保护技术方案的传统法律，在保护的程度上确实十分可靠。争取获得专利权仍为保 护集成电路产品的上佳选择。
但是也应当看到，仅靠方法专利是不可能使集成电路得到充分保护的，因为在同样的工 艺下，改变布图设计便可生产出不同的集成电路芯片或产品；反过来，相同品种的集成电路 也可用不同的工艺方法制造。比如，离子注入技术既可用在浅结微波电路制造中，也可用于 生产半导体存储器；同样是普通的LSTTL电路，既可以采用高温扩散工艺来形成P—N结， 也可采用离子注入来实现这一过程。即便是方法专利的效力延及到用该方法制造的产品，制 造商也很容易规避专利侵权问题。
三、著作权法的保护
由于集成电路本身的特性使其与保护技术方案的传统法律-专利法的保护体系存在着不协调，因此，人们便尝试着用著作权法来保护集成电路。著作权法这一保护文学、艺术和科学作品的法律之所以能闯入集成电路产品保护的领域，也是因为集成电路自身特点的缘故。前面讲过，集成电路布图设计具有可复制性，这种可复制性直接导致了著作权法的某些保护原则和手段可以适用于集成电路布图设计。但是，布图设计毕竟不同于普通作品，将这种具有实用性的布图设计纯粹地用著作权法所能提供的方式来保护，其结果肯定不尽人意。这主要表现在以下几个方面。
第一，集成电路布图设计的价值，主要体现在其实用性上。采用了先进的布图设计便可 能生产出性能优良的集成电路，从而给布图设计的使用人带来丰厚的利益。但是，并非所有 的布图设计都能来利益，真正有价值的是那些在技术上确实先进的布图设计。这就是说， 图设计的价值寄托于包含在布图设计中的技术因素，真正需要保护的也正是这种技术因素。由此可见，这已经超越了著作权法所能保护的范围。比如一本专门介绍某一领域工业技术的图书，著作权法仅仅保护这本书的编排结构、文字表述等形式，并不保护书中所介绍的技术内容。故实施书中有关技术内容并不侵犯著作权，因为著作权法所规定的作品使用方式不包括实施作品中所阐述的内容，即著作权法不保护作品的实用功能。可见，单纯采用著作权法来护布图设计是不充分的。
第二，著作权法对所保护的对象没有新颖性和创造性的要求。只要作品是作者独立创作 完成的，不论其艺术水平高低，也不论在此以前是否曾有相同或类似作品问世，一律受到著 作权法的保护。这就是著作权法中的独创性原则。如前所述，集成电路布图设计具有极为浓 厚的技术色彩，其价值的高低取决于该布图设计在技术上的难和新。法律应当保护的是那些 在技术上有一定难度或者有所创新的布图设计。如果对那些已经进入公有领域的为专业技术 人员所熟知的布图设计进行保护，则不仅起不到促进技术进步的作用，反而会扼制技术人员 在现有技术的基础上进一步创新，这与立法保护集成电路的宗旨是相悖的。因此，受保护的 布图设计应当具备一定高度，只有这样才能达到立法保护集成电路布图设计的目的。
第三，在著作权法中有一个重要原则，即它不保护作品的内在思想，只保护作品的表达 形式。思想从来都不能用法律调整，法律不应当也不可能垄断思想。对于普通作品，同一思 想可以有多种表达形式。因此，对表达形式的保护不会造成垄断思想的局面。著作权法中各 项规定无不贯穿着这一基本原则。比如，单纯传达事实的时事新闻不受著作权保护的规定就 是一例。简言之，可有多种表达形式的客体不应成为著作权保护的对象。而集成电路布图设 计受诸多因素的制约，其表现形式极为有限，有时甚至只有一种选择。这一特点在前面已经 详述。将这种只有有限表达形式的布图设计作为著作权法的保护对象显然是不妥的。从原则 上讲，突破了这些限制的布图设计也能受到著作权法的保护，但这种任设计人个人意志自由 挥洒出来的布图设计是没有工业实用性的，使用这种布图设计也难以造出集成电路产品来。严格说来，它已不再是集成电路布图设计，而是一种“抽象的作品”。
第四，依照著作权法，未经著作权人同意，任何人不得以任何形式复制他人的作品。由 此可以推知，实施“反向工程”的行为是违背著作权法规定的。然而，在集成电路产业中，反向工程技术已为世界各国厂商所普遍采用。
虽然著作权法中也有合理使用的规定，但合理使用只适用于复制他人作品的一部分，而 反向工程则可能复制出他人集成电路的全部布图设计。依著作权法，在原作基础上进行改编 的权利应当属于作者，而实施反向工程的最终目的则可能是要对他人的集成电路作出改进。如果依照著作权法将这类行为视为侵权，就对集成电路产业的发展十分不利，故而，简单地适用著作权法中有关复制权的规定是不妥的，应当在一定条件下给予实施反向工程的特许，这是对复制权的一种限制。
事实上，允许在一定条件下实施反向工程的规定，类似于专利法中关于改进发明的规定。 作为工业产权客体的专利技术是对社会公开的。设置专门的公开渠道，是为了便于他人在现 有技术的基础上作出更新更优的发明创造，这是专利法的立法宗旨。而在集成电路布图设计 的保护中，不宜专门设立公开渠道，对反向工程的特许在一定程度上起着与专利法中的公开 程序等效的作用。可以认为这是对公众利益的一种补偿。所以，法律当允许有关当事人以分 析、研究集成电路的技术特性为目的而复制他人布图设计的行为。
四、其他有关法律对集成电路的保护
由上所述，专利法或著作权法都可能在一定程度上实现对集成电路布图设计的保护。除 了这两种法律之外，其他一些法律也可在某些方面起到保护集成电路的作用。
实用新型法是与专利法最为接近的法律制度，因此在保护集成电路方面它也存在着与专 利法同样的问题。在国际上，专利法通常仅指调整有关发明专利的法律，换言之，发明与专 利常作为同义语（见巴黎公约第1条），而实用新型、外观设计分别有专门法律予以调整。我 国专利法在立法过程中，出于国情的考虑，将实用新型、外观设计一并列入专利法，称为实 用新型专利和外观设计专利。另外，实用新型多为一些比较简单的小发明，因此其保护措施 也相对简单一些。并且，像布图设计这种尚不能构成产品的对象通常是不能作为实用新型予 以保护的。而现实中一些不法厂商正是靠窃取、倒卖或仿制他人的布图设计大发横财，如果 对集成电路的保护仅仅停留在集成电路产品上，而不直接保护布图设计，那么集成电路的保 护也就形同虚设了。
在工业产权法中还有一种外观设计法。所谓工业品外观设计是指对产品形状、图案、色 彩，或者其结合所提出的富于美感的新设计。集成电路布图设计可以认为是一种特殊的图案， 从理论上讲它是可以受外观设计法保护的。但是这种图案并非只附着于产品外表，而是存在 于集成电路芯片之中或之上。对于已经封闭的集成电路产品，人们是看不见其中的芯片的，因此，布图设计图案就不构成产品外观，即使将封装前的芯片视为产品，处于芯片内部的布图设计也不能构成外观设计。而且布图设计的图案十分细微，只有在显微镜下才能看清，仅凭肉眼是难以辨认的。因而即使将其认为是一种抽象的图案，也很难引起人们在视觉上的美感。采用外观设计法来保护一种肉眼难以看清的图案，不免让人有滑稽之感，另外采用外观设计法不能保护集成电路布图设计的技术功能，故而也不是一个可行的方案。
实践中，采用工商秘密的方式来对集成电路布图设计进行保护，也是行不通的。集成电 路技术中关于工艺设计或生产方法等方面的技术可以通过保密的方式将其作为技术秘密来保护。但是对于存在于集成电路芯片中的布图设计，是绝不可能作为技术秘密得到保护的。因为一定的布图设计与一定的电子功能相联系。具备一定电子功能的集成电路产品，其内部必然存在相应的布图设计，只要他人持有该集成电路产品，也就可以通过反向工程技术了解并复制其内部的布图设，现在无论怎样的封装技术，都可用适当的方法，从产品中获知其内 部设计的结构；所以要通过营业秘密来保护集成电路布图设计是不现实的，尽管不少国家都 制定有反不正当竞争法，但要依制止不正当竞争法指控他人窃取工商秘密，原眚必须有充分 的证据，同时原告还要能证明自己确实为保护秘密作了充分努力，否则指控将不能成立。民 法中也有关于诚实信用的规定，对于违背诚信原则的行为应当承担相应的民事责任。但是，同前面一样，要证明被告违背诚信原则通常是十分不易的。
集成电路作为一种商品，可以采用商标法来保护。各个生产厂家都可在其产品上打上其 专有标记。国外各大公司均有自己的商标，如日本的NEC（日电）、TOSHIBA（东芝）；美国的TI（德州仪器），MOTOROLA（摩托罗拉）。我国的厂商也有自己的商标，如：华晶、华越、骊山等。—采用这些商标可在一定程度上保护集成电路。并且，作为生产厂商，它不仅可将其商标打印在产品表面或包装上，而且还可将商标图案输入布图设计中，国内外很多厂商已经这样做了。采用这种方式，设计人还可在布图设计上署名，这也是知识产权中人身权的一部分。但是商标法所保护的凝结在商标上的商业信誉，具体表现为商标专有权。而商标专用权的保护是通过禁止未经商标权人许可擅自使用其商标来实现的，只要不在商品及其包装上使用他人商标即不构成侵权，因此，仅仅采用商标法还是不够的。
从以上分析可看出，集成电路布图设计作为知识产权客体的新成员，是有其独特个性的。 为了充分地保护集成电路布图设计，我们不能简单地沿用现有的专利法、著作权法以及有关 的其他法律，而应当充分考虑集成电路布图设计本身的特性，针对具体情况制定一种适合于 其特点的专门法律。这一法律既要借鉴著作权法中的某些原则和规定，又要吸收工业产权法 中的有关做法。因为法律所保护的对象是一个既不完全等同于著作权的客体，又不完全与工 业产权客体相同的集成电路布图设计。因此这样一部法律在知识产权法律体系中享有其独立 的地位。在权利内容方面，它既非单一采用传统专利法的未经权利人许可他人不得随意制造、 使用、销售、进口的方式；也不像著作权法那样，一切权利都是以复制权为核心派生出来，而应综合采用工业产权法和著作权法这两种保护方式、因此，有人认为这是一种既不同于工业产权法也不同于著作权法的新型知识产权法，日本有人将知识产权分为工业产权、著作权和电路布局（即布图设计）权。国内有学者称其为工业版权。无论从哪个角度看，布图设计权都是一种在传统知识产权分类中所没有的新类型。笔者认为，由于集成电路在现代信息社会中的作用与传统知识产权保护体系对其的保护不相适应，故而应当制定一种与专利法、商标法、著作权法等地位相当的专门法律来保护集成电路布图设计。
适应，故而应当制定一种与专利法、商标法、著作权法等地位相当的专门法律来保护集成电路布图设计。
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