从法律的角度看，集成电路法律保护是一个综合性问题。对于具体的集成电路产品，它    可以依民法中有关所有权的规定受到保护。对于利用集成电路从事犯罪活动的，应当受到刑   法的制裁。在现代信息社会中，用知识产权法来保护集成电路技术则显得尤为重要。传统的    知识产权法大致可以划分为著作权法、专利法、商标法等几个方面。但由于集成电路有其不    同于传统知识产权客体的独到特点，依靠现有的这些法律无法予以充分的保护，为了适应这    一需求，诞生了一种专门保护集成电路的新型知识产权，即集成电路布图设计权。这是知识    产权法的最新发展之一。

　　中国作为发展中国家中的大国，从自身的长远利益考虑，对知识产权保护问题予以高度    重视，对集成电路的保护自然也不应例外。因此，有必要像制订其他有关知识产权法，如专    利法、商标法、著作权法一样，制订一部既适应我国集成电路产业发展现状，又符合国际知    识产权保护原则的专门法律，来保护集成电路。

　　一、集成电路知识产权的特点

　　从国际上已经形成的集成电路法律保护制度看，法律所直接保护的对象并不是集成电路产品本身，而是集成电路布图设计（1ayoutdesign）。因此，所谓集成电路知识产权，实质上    是布图设计权。法律通过保护布图设计来达到保护集成电路的目的。不同国家在立法中对布    图设计分别采用了不同的名称：美国称之为掩模作品（maskworks）；日本叫作电路布局（cir—    cuitlayout）；西欧各国在其立法中则采形貌结构（topography）这一提法，而世界知识产权组    织在《关于集成电路的知识产权条约》中把它叫作布图设计。笔者以为，在这众多的名词中    还是以“布图设计”一词为最佳。“掩模作品”一词取意于集成电路生产中的掩模。集成电路技术发展到今天，已可不使用掩模版生产集成电路了，如采用离子注入技术、电子束曝光技术等等，所以“掩模用品”已有过时之嫌。面“线路布局”一词又难免与电子线路板的布线设计相混淆，故亦有不妥之处。“形貌结构”一词原意为地貌、地形，并非电子学术语，用以指布图设计只是一种借用。有人将“topography”译作“拓朴图”，此属音意合译。在国内集成电路设计行业中，拓朴图的含义是比较宽泛的，通常把某些尚未最后形成布图设计的前期设计也称作拓朴图，所以将其汉译为拓朴图可能造成设计人的误解。当然还有学者将该词译作，“构形”。相比之下，还是世界知识产权组织采用的尸布图设计“一词比较妥当；它不仅避免了其他各词的缺陷，而且这一名词本身在产业界及有关学术界已广泛使用。《中国大百科电子学与计算机》中亦有？布图设计”的专门词条集成电路设计是人类智力劳动的成果，它的保护问题理所当然地应受知识产权法调整。作为知识产权的客体之一，布图设计有着与其他客体相同的共性；同时它又具有独特的个性。

　　首先，集成电路布图设计具有无形性。无形性是知识产权客体的共同属性，也是最基本的特点。这是集成电路布图设计作为知识产权客体的必要条件。所谓集成电路布图设计是指以任何方式固定或者编码的一系列相关图像：（1）它反映了用以构成集成电路产品的材料层之间的三维配置模式；（2）每一图像分别体现了集成电路产品制造过程中各阶段的表面模式的整体或部分。由此可知，布图设计实际上是图形化的集成电路中各元件的配置方式，这种配置方式本身是抽象的、无形的。它没有具体的的形体，而是以一种信息状态存在于世，不像有形物体占居一定的空间。但是当它附着于一定的载体时，就可以通过有形载体为人所感知。