第二，在集成电路设计中，尤其是设计一些规模较大的电路时，设计人常常采用一些现成的单元电路进行组合。如今，设计集成电路布图全部采用计算机辅助设计（CAD）方法，有关的常规单元电路均被收入CAD工具之中。这些单元电路在实践中已为人们所熟知，其中一些已经是最优化设计，其表现形式是有限的，甚至是惟一的。有时候，设计人为了追求电路的最佳功能状态可能只有一种选择，即采用这些已经成型的单元电路。事实上，现在已没有人再用传统的刻制红膜的方法制作版图。现在的集成电路布图设计几乎都是以“搭积木”的方式将现有的电路单元组合而成。在专利法中，由各种现有单元电路模块组合成的集成电路即可视为一种组合发明。这类单元电路组合所得结果，在通常情况下根据已有知识可以事先预测，不会产生意想不到的结果。而在专利审查中，组合发明要通过创造性审查，必须取得对该发明创造所属技术领域的普通技术人员来说是预先难以想到的效果。[4]这对大多数集成电路产品来讲，是难以达到的。

　　以上两种情况在集成电路设计中是十分常见的。这使众多集成电路因为创造性达不到要求而不能受到专利法的保护。尤其是第一种情况，可能会导致最先进、最尖端的集成电路产品得不到法律保护。当然，这绝不意味着所有的集成电路发明创造都不受专利法保护，那些确实具备创造性的集成电路产品仍可申请专利以寻求保护。比如，第一个发明电荷耦合器件（CCD）②的发明人便可就其发明创造申请专利，因为CCD在其发明时与原有的其他器件相比确有其实质性特点。应当承认，专利法作为保护技术方案的传统法律，在保护的力度上确实十分强。如能获得专利权，仍为保护集成电路产品的上佳选择。

　　尽管大多数集成电路产品获得专利存在着一定的困难，但对制造集成电路的工艺技术，仍可作为方法专利获得保护。仅靠方法专利不可能使集成电路得到充分保护。因为在同样的工艺下，改变布图设计便可生产出不同的集成电路芯片或产品；反过来，相同品种的集成电路也可用不同的工艺方法来制造。比如，离子注入技术既可用在浅结微波电路制造中，也可用于生产半导体存储器。即便是方法专利的效力延及用该方法制造的产品，制造商也很容易规避方法专利的侵权问题。

　　专利法固然在原则上可以适用于集成电路的保护，但在实际操作中仍然存在着不尽如人意的地方。因为集成电路产品在技术构成方面更注重规模的扩张，即量的增加。而专利法的创造性条件则要求受保护的发明创造必须具备质的变化，即必须具备其自身的实质性特点。这一要求便把众多集成电路产品挡在了专利法大门之外。

　　2.著作权法的保护

　　正因为专利法对集成电路的保护不尽如人意，人们不得不另辟蹊径来保护集成电路。1979年，美国众议院议员爱德华（Edward）、麦克罗斯基（McCloskey）和米内塔（Mineta）三人联合首次提出采用修改著作权法的方式来保护集成电路芯片的议案。这一议案要求拓宽著作权法的保护范围，即将著作权法的保护范围扩充到集成电路的掩模图形。（3）通过保护布图设计的方式来达到保护集成电路的目的。由于著作权法的保护从不涉及作品的实用功能，故在听证会上这一议案引起了激烈的争论。反对者认为用著作权法保护集成电路将构成对技术开发的限制。因为在芯片开发过程中，常采用反向工程的方法来了解其他厂商的产品性能和技术水平，从而开发出与已有芯片兼容或性能更优越的产品。若用著作权法保护集成电路，则实施反向工程的行为即构成侵权。他们还认为，此议案将使美国的集成电路工业沦为弱者，因为该议案只能禁止美国境内实施反向工程行为，而地处美国境外的制造商则不受此限制。[5]最后，这一议案被否决。

　　所谓布图设计是指一种体现了集成电路中各种电子元件（包括有源元件和无源元件）的三维配置方式的图形。这种“配置方式”本身是可以以一种信息状态存在于世的，不像其他有体物占据一定空间。但当它附着在一定的载体上就可为人所感知。布图设计在集成电路芯片中表现为一定的图形。同样，在掩模版上，布图设计也是以图形方式存在的。计算机辅助设计技术的发展，使布图设计可以数字化代码的方式存储在磁盘或磁带中。在计算机控制的离子注入机或者电子束曝光装置中，布图设计也是以一系列的代码方式存在。人们可通过一定的设备感知这些数字化代码信息。在不同的载体上，布图设计可以不同的信息状态存在。制造集成电路的过程就是把布图设计所表现的图形结构通过特定的工艺方法，如刻蚀、掺杂等，“固化”在硅片之中。由于集成电路必须根据其功能需求设计，因而不同功能的集成电路，其布图设计也是不同的。从这个意义上说，通过对特定布图设计的保护也就实现了对特定集成电路的保护。爱德华等的议案尽管被美国国会否决，但它对后来集成电路保护的立法仍然有重要意义，因为它首次提出了通过保护布图设计的方式来实现保护集成电路的目的的思想。