另一方面，对于专利法而言，任何国家的专利法都要求被授予专利的技术必须清楚、完整、全面地公开其全部内容。正是因为专利权人公开了其全部技术方案，专利法才对其技术给予保护。专利制度被认为是国家与发明人之间的一个契约。同样，作为技术方案的布图设计，从现行法律制度看并没有一套公开制度，一些国家或地区甚至还规定交存于登记机构的布图设计图纸涉及技术秘密的还可以加以覆盖。在这样的条件下，布图设计权人仍然像专利权人一样享有效力可以无限延伸的专有权，对公众而言是极不公平的。仍以著作权法为例，著作权的效力仅及于作品的非实用的符号的组合，其垄断效力较之专利权要弱得多。相应地，著作权法中便专门设置有保护作品是否公开的发表权。由此也可以看出，在现有的知识产权体系下，是否有法定的公开程序也是决定权利效力强弱的标准之一。当然，前述反向工程的例外可以认为是在没有法定公开程序的前提下对公共利益的一种补偿。但这毕竟还不是像专利权人那样和盘托出。从这种意义上讲，布图设计权也不应当具有同专利权相同的效力。因此，布图设计权的效力只应当适当延伸至集成电路产品本身，而不应当再进一步延伸到二次产品上。布图设计权在知识产权体系中也应当是位于著作权和传统工业产权之间。

　　综上所述，从法律的角度上看，集成电路法律保护是一个综合性问题。对于一个具体的集成电路产品，它可以依民法中有关所有权的规定受到保护。对于利用集成电路从事犯罪活动的，应当受到刑法的制裁。（7）作为人类智慧结晶的集成电路技术，理所当然地应当受到知识产权法的保护。其中，布图设计由专门法加以保护，由此而产生的布图设计权属于一种独立的知识产权。随着技术的发展，还将产生一些类似的新权利，即使是一些传统的权利类型也可能会派生出一些新的权能。这已经为现实所证实。

　　注释：

　　①在日常生活中，也有人将封装好的集成电路产品简称为芯片。

　　②这是Charge CoupledDevice的简称。封装之前集成电路通常被称为芯片。

　　（3）掩模图形是布图设计的一种表现方式，在美国1984年《半导体芯片产品保护法》中叫做掩模作品。

　　（4）欧共体于1986年12月16日颁布了《关于半导体产品拓扑图保护的指令》，而瑞典则在1986年12月18日颁布了自己的国内法《半导体产品电路的布图设计保护法》。从时间上可以看出，瑞典在欧共体指令颁布前早已开始了集成电路保护法的起草工作。

　　（5）见台湾地区《积体电路线路布局保护法》第2条第3款。

　　（6）世界知识产权组织《集成电路知识产权条约》第3条第2款、世界贸易组织的《与贸易有关的知识产权协定》第35条。

　　[参考文献]

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　　[5]　Hearingbefore the Subcommittee onCourts，CivilLiberties，and the AdministrationofJusticeoftheCommittee on theJudiciaryHouseofRepresentatives[Z].Ninety sixthCongress.First Session.onH.R.1007.Copyright Proec tion for InprintedDesignPatternsonSemiconductorChips.U.S.Government Printing Office.Washington，1979.49-50，11-17，31-33，50-55，59-62.