第四，依照著作权法，实施“反向工程”的行为将被禁止。未经著作权人同意，任何人不得随意复制他人作品。由此可以推知，实施“反向工程”的行为是违背著作权法规定的。然而，在集成电路产业中，反向工程的方法已成为世界各国厂商普遍采用的了解他人产品信息，进而开发出兼容或者更为先进的产品的一种手段。这对产业发展和技术进步是十分必要的。如果实施反向工程，不是单纯地为复制他人布图设计以便仿制他人产品，而是通过解剖、分析，了解他人产品的功能、参数特性，以便设计出与之兼容的产品，或者在他人产品的基础上做进一步的改进，从而制造出在技术上更加先进的集成电路，则应当认为是合理、合法的。虽然著作权法中已有合理使用的规定，但合理使用仅仅适用于复制他人作品的一部分，或者完全属于个人使用的目的。而反向工程则可能会复制出他人集成电路的全部布图设计，并且可能是为进一步开发新的商业化产品做准备。故而，布图设计的保护不宜直接照搬著作权法中有关复制权、演绎权的规定，而应当在一定条件下给予实施反向工程的特许。

　　事实上，允许在一定条件下实施反向工程的规定，更类似于专利法中关于改进发明的规定。作为工业产权保护对象之一的专利技术是对全社会公开的。专利法设置专门的公开渠道，是为了便于他人在现有技术的基础上完成更新更优的发明创造。如果也像专利法一样规定专门的公开程序将布图设计图形公之于世，权利人将难以控制其布图设计。权利人不仅会在产品的成本方面丧失优势，甚至会连抢占市场的时间优势都丧失殆尽。因此，在布图设计保护制度中不宜专门设立公开渠道。但是，保护布图设计的终极目的毕竟还是为了促进技术进步，因此还应当照顾到公共利益，以便他人在一定程度上可以借鉴现有的先进技术。在一定条件下的反向工程的特许便是起着与专利法中公开程序等效的作用。这是对公众利益的一个补偿。法律应当允许有关当事人为分析、研究集成电路的技术、特性目的而复制他人布图设计的行为，但并不允许将复制的布图设计直接再投入集成电路的生产。对于反向工程的特许，是考虑到现阶段技术发展水平、平衡权利人和公众利益的结果。这种平衡并非永恒的，它必将随着生产力的进步而被打破。到那时，法律必将通过修订在新的条件下寻求一个新的平衡支点。

　　以上几个方面足以说明，尽管布图设计在外在特征上具备作品的可复制性，但若直接适用著作权法保护布图设计肯定达不到预期的目的。

　　3.其他知识产权法的保护

　　在现有的知识产权法框架中，还有实用新型法、外观设计法、商标法、反不正当竞争法、商号或企业名称保护法、原产地名称保护法，等等。其中有的法律与集成电路不相干，如原产地名称保护制度与集成电路这种纯粹的工业产品间似乎没有关系，不可能用来保护集成电路或者布图设计。

　　在现有的诸多知识产权法律门类中，实用新型法虽然是保护技术产品的法律，但是绝大多数国家和地区（法国、澳大利亚等国除外）的法律都要求受保护的实用新型都必须是具备固定形状或者结构的产品；有的还要求实用新型也必须具备创造性。而集成电路产品的创新点往往并不体现在产品的外在结构和形状上，加之集成电路在创造性标准上可能难以过关，一些国家实用新型的保护期又非常短，故从总体上看实用新型法似乎并不适合集成电路的保护。

　　外观设计法所保护的是产品的新颖外观。而集成电路产品似乎并不靠外观来招徕客户，况且集成电路的外观往往千篇一律，犹如蜈蚣般的众多的插脚或管腿从一小块薄薄的塑料片或陶瓷片的两边或四周伸出。这样的设计毫无新意可言。即使就集成电路芯片而言，尽管在芯片表面上附着集成电路的最上层的布图设计图形，但恐怕任何一个国家的外观设计法都不会对这种只有在显微镜下才能看清楚的图形加以保护。商标法的保护对象决无任何技术成分可言。